西域一直热盼中国在尖端芯片的生产上有所突破,这不又转了个帖子说中国已经攻克了4纳米芯片技术开始量产,但是这只是题目上的,在内容上也说得很清楚是长电科技封装量产。并不是4纳米芯片的生产。有消息说中国通过多次曝光技术已经能生产14纳米芯片了,不知道是真是假,28纳米据说也攻克了,但是我看的许多报道都是实验室成果,实际上达到生产级还需要很长的路,因为成品率才是关键,不是能生产出单个芯片就叫攻克了。
为什么顶尖光刻机这么难造?想过没有?其实你只要再问一下为什么荷兰能造出来顶尖光刻机就明白了。荷兰的工业实力能支撑的起来造这么尖端的光刻机吗?答案肯定是不能,荷兰没有这么庞大的工业体系支撑这么尖端的的光刻机制造,他是集世界技术之大成。是国际合作的结果。如果仔细研究下荷兰的光刻机制造就可以总结出经验,指导中国的光刻机制造。
荷兰asml公司制造的光刻机只有10%的技术是他自己的其余的都是别人的,核心镜片是德国蔡司的,一些精密零件来自台湾,美国等。他是集大成者。一个小公司通过国际合作完成了尖端光刻机的生产。这就给中国以启示,光刻机不能指望一个公司自己搞出来,他需要广泛的合作。所以中国在光刻机的研究上就要吸收asml的经验,不能闭门造车,而是需要广泛协作。中国***提供万亿资金来搞芯片,从资金方面看是个好事,但是如果光是撒出去,广种薄收效率太低了,而且被许多地方,企业钻了补贴的空子,拿了钱出不了成果。我觉得在光刻机这个环节还是应该由国家牵头搞攻关,把子系统分散出去由一些企业分头公关,然后再汇聚起来,这样省钱省时间。如果光是这么大撒把,等待个别企业能有全盘突破几乎是不可能的,白白浪费国家的万亿资金。
在这点上必须由国家统筹规划。得有大师,钱学森级别的大师,通过网络化科研攻关,最终实现突破。
这是我的一点不成熟的看法。
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